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Sub-Half-Micron Lithography for Ulsis als Buch
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Sub-Half-Micron Lithography for Ulsis

Revised. Sprache: Englisch.
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Describes advanced techniques under development that represent the key to future semiconductor-device fabrication.
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Sub-Half-Micron Lithography for Ulsis als Buch

Produktdetails

Titel: Sub-Half-Micron Lithography for Ulsis

ISBN: 0521022347
EAN: 9780521022347
Revised.
Sprache: Englisch.
Herausgegeben von Katsumi Suzuki, Shinji Matsui, Yukinori Ochiai
CAMBRIDGE UNIV PR

August 2005 - kartoniert - 344 Seiten

Beschreibung

Describes advanced techniques under development that represent the key to future semiconductor-device fabrication.

Inhaltsverzeichnis

1. Introduction Masao Fukuma; 2. Optical lithography Kunihiko Kasama, Shinji Okazaki, Hisatake Sano and Wataru Wakamiya; 3. X-ray lithography Kimiyoshi Deguchi, Teruo Hosokawa, Sunao Ishihara and Katsumi Suzuki; 4. Electron beam lithography Takayuki Abe, Koichi Moriizumi, Yukinori Ochiai, Norio Saitou, Tadahiro Takigawa and Akio Yamada; 5. Ion beam lithography Masanori Komuro and Shinj Matsui; 6. Resists Hiroshi Ban, Tadayoshi Kokubo, Makoto Nakase and Takeshi Ohfuji; 7. Metrology, defect inspection and repair Tadahito Matsuda, Toru Tojo and Seiichi Yabumoto; Index.
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