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Produktbild: Patent- und Designrecht. PatR | Andreas Heinemann
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Patent- und Designrecht. PatR

Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht. Rechtsstand: 1. März 2025

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Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht - Rechtsstand: 1. März 2025

Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS

Neuauflage
Die 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u. a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem. -GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAO

Zielgruppe
Für Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.

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Produktdetails

Erscheinungsdatum
17. April 2025
Sprache
deutsch
Auflage
18. Auflage
Seitenanzahl
1027
Reihe
Beck-Texte im dtv, 5563
Autor/Autorin
Andreas Heinemann
Vorwort
Andreas Heinemann
Verlag/Hersteller
Produktart
kartoniert
Gewicht
588 g
Größe (L/B/H)
190/124/47 mm
ISBN
9783423533034

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